摘要: 本文以HNO3/HBrO3/KMnO4为氧化插层体系制备低温可膨胀石墨,研究了制备低温可膨胀石墨的最佳条件和物料配比,讨论了插层试剂对起始膨胀温度的影响,提出了氧化插层的机理.研究表明:制备低温可膨胀石墨的反应温度为室温(25 ℃);反应时间40 min;石墨、硝酸、溴酸钠、高锰酸钾的最佳质量比为1∶[KG-·2]3∶[KG-·2]0.1∶[KG-·2]0.07,由此方法制得的可膨胀石墨起始膨胀温度为130 ℃,600 ℃时膨胀容积为350 mL/g.
中图分类号:
王玲;宋克敏;张帅华;李庆;李云鹏;刘敏. 高倍率低温可膨胀石墨制备的研究[J]. 硅酸盐通报, 2009, 28(4): 844-849.
WANG Ling;SONG Ke-min;ZHANG Shuai-hua;LI Qing;LI Yun-peng;LIU Min. Study on Preparation of the High Expansion Volume and Low Temperature Expansible Graphite[J]. BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY, 2009, 28(4): 844-849.