工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响

硅酸盐通报 ›› 2013, Vol. 32 ›› Issue (12): 2544-2549.

工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响

张玉芹;邓小玲;刘行冰;符春林;成计平

重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆,401331

出版日期:2013-12-15 发布日期:2021-01-18
基金资助:
国家自然科学基金资助项目(51102288);重庆市自然科学基金资助项目(2010BB4286,2011BA4027);重庆市教委科学技术研究资助项目(KJ121408);重庆科技学院校内基金资助项目(CK2010Z07)

Effects of Magnetron Sputtering Parameters on the Properties of BST Thin Films

ZHANG Yu-qin;DENG Xiao-ling;LIU Xing-bing;FU Chun-lin;CHENG Ji-ping

Online:2013-12-15 Published:2021-01-18

摘要/Abstract

摘要： 磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用.本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题.

关键词: 磁控溅射;BST薄膜;工艺参数;性能

Key words: magnetron sputtering;BST thin film;process parameter;property

中图分类号:

TQ177

张玉芹;邓小玲;刘行冰;符春林;成计平. 工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响[J]. 硅酸盐通报, 2013, 32(12): 2544-2549.

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