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硅酸盐通报 ›› 2013, Vol. 32 ›› Issue (6): 1026-1031.

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纳米CeO2颗粒的表面改性及其抛光性能研究

付银元;肖汉宁;欧阳唐哲;周筱桐;张海峰   

  1. 湖南大学材料科学与工程学院,长沙,410082;湖南大学材料科学与工程学院,长沙410082;湖南翰林新材料股份有限公司,长沙410205;湖南翰林新材料股份有限公司,长沙,410205
  • 出版日期:2013-06-15 发布日期:2021-01-18

Surface Modification of Ceria Nanoparticles and Their Chemical Mechanical Polishing Behavior

FU Yin-yuan;XIAO Han-ning;OUYANG Tang-zhe;ZHOU Xiao-tong;ZHANG Hai-feng   

  • Online:2013-06-15 Published:2021-01-18

摘要: 为改善CeO2粉体的化学机械抛光(CMP)性能,采用聚乙烯亚胺(PEI)作为分散剂,对CeO2粉体表面进行改性,通过傅立叶红外光谱(FTIR)、透射电镜显微镜(TEM)、Zeta电位仪、激光粒度仪及稳定性测试等方法分析了表面改性对CeO2颗粒表面性质及其抛光液分散稳定性的影响.结果表明:纳米CeO2粉末经PEI改性后改变了其在水中的胶体性质,Zeta电位绝对值提高,CeO2颗粒间的空间位阻增加,抛光液的分散稳定性得到了明显改善.改性后纳米CeO2抛光液对手机面板玻璃的化学机械抛光(CMP)的抛光效率(MRR)由改性前的330 nm/min增加到381.6nm/min,具有更好的抛光效果.

关键词: 氧化铈;表面改性;聚乙烯亚胺;抛光效率

Key words: ceria;surface modification;polyethyleneimine;polishing efficiency

中图分类号: