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硅酸盐通报 ›› 2009, Vol. 28 ›› Issue (1): 71-75.

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界面SiO2层对SiC/Al电子封装材料热膨胀系数的影响

王涛   

  1. 西安科技大学材料系,西安,710054
  • 出版日期:2009-02-15 发布日期:2021-01-15

Influence of Interface on the Coefficient of Thermal Expansion of SiC/Al Electronic Packaging Composite

WANG Tao   

  • Online:2009-02-15 Published:2021-01-15

摘要: 用无压浸渗的方法制备了高体积分数的SiC/Al复合材料.通过改变SiC预制样品的烧结工艺来改变SiC和Al的界面状况,分析了SiC表面SiO2层的变化对SiC/Al复合材料的热膨胀系数的影响.用无压浸渗的方法可得到常温下热膨胀系数为(5.68~7.12)×10-6/K的SiC/Al复合材料.颗粒大小一定时,复合材料的热膨胀系数随着SiO2界面层的厚度增加而减小.当界面SiO2层厚度从45 nm增加到2100 nm时,常温下热膨胀系数从7.12×10-6/K减小到5.68×10-6/K.

关键词: 碳化硅/铝复合材料;界面;热膨胀系数

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