磁控溅射功率对WOx薄膜结构和光催化活性的影响

硅酸盐通报 ›› 2019, Vol. 38 ›› Issue (2): 512-516.

磁控溅射功率对WOx薄膜结构和光催化活性的影响

李渊;赵青南;张泽华;刘翔;曾瑧;董玉红

武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉 430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁 223800;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁,223800

出版日期:2019-02-15 发布日期:2021-01-19
基金资助:
产学研合作项目(20131h0467)

Effect of Magnetron Sputtering Power on Structure and Photocatalytic Activity of WO x Thin Films

LI Yuan;ZHAO Qing-nan;ZHANG Ze-hua;LIU Xiang;ZENG Zhen;DONG Yu-hong

Online:2019-02-15 Published:2021-01-19

摘要/Abstract

摘要： 采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WOx薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外可见分光光度计和接触角计,研究不同溅射功率下薄膜的物相结构、表面形貌、元素价态、膜厚、光学性能、光催化和亲水性能.结果表明,随着溅射功率增加,薄膜的光学带隙逐渐减小,薄膜光催化活性与亲水性均提高.180 W溅射功率沉积的薄膜放置在亚甲基蓝溶液里,然后用紫外灯照射210 min,亚甲基蓝降解率达到97％;WOx薄膜在紫外灯下照射120 min时,水接触角达到12.2°,停止照射之后放置在可见光下260 min,水接触角达到19.1°.

中图分类号:

TG146

李渊;赵青南;张泽华;刘翔;曾瑧;董玉红. 磁控溅射功率对WOx薄膜结构和光催化活性的影响[J]. 硅酸盐通报, 2019, 38(2): 512-516.

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