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硅酸盐通报 ›› 2015, Vol. 34 ›› Issue (9): 2691-2695.

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基于CFD研究釉浆压力对陶瓷静电施釉的影响

徐晗;吴琦;韩文;徐磊   

  1. 景德镇陶瓷学院机械电子工程学院,景德镇,333403
  • 出版日期:2015-09-15 发布日期:2021-01-18

Effect of Pressure on Electrostatic Glazing Based on CFD Analysis

XU Han;WU Qi;HAN Wen;XU Lei   

  • Online:2015-09-15 Published:2021-01-18

摘要: 针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了1.5 bar、2.5 bar和5 bar三种压力情况下静电施釉过程中釉滴的粒径和运动速度分布情况.结果表明:在静电场作用和不同的压力作用下,可使得喷枪的雾化效果发生改变,能得到不同大小、不同均匀程度的釉滴粒径,并能获得不同釉滴的运动速度和分布.其中在施加2.5 bar压力条件下釉滴粒径均匀,釉浆雾化的效果最好.

关键词: 压力;静电场;施釉;釉滴;CFD

Key words: pressure;electrostatic field;glazing;glaze drip;CFD

中图分类号: