硅酸盐通报 ›› 2014, Vol. 33 ›› Issue (3): 506-510.
吴改红;刘淑强;郭红霞;董华;肖云超;孙卜昆;戴晋明
WU Gai-hong;LIU Shu-qiang;GUO Hong-xia;DONG Hua;XIAO Yun-chao;SUN Bu-kun;DAI Jin-ming
摘要: 为了降低纳米SiO2的表面能,防止团聚,提高分散性,应用硅烷偶联剂KH-550对纳米SiO2进行表面修饰.分析KH-550用量、反应时间对纳米SiO2修饰效果的影响关系,并应用SEM对纳米SiO2修饰前后形貌进行观测,应用SEM、DSC对聚乳酸/纳米SiO2复合材料进行表征.结果得出纳米SiO2最佳修饰工艺为:KH-550用量5%,反应时间2h.最优工艺修饰的纳米SiO2结构松散,在聚乳酸中分散均匀,复合体系的玻璃化转变温度提高了4.29℃,玻璃化转变温度处的热焓提高了2.431 J/g.
中图分类号: