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硅酸盐通报 ›› 2011, Vol. 30 ›› Issue (6): 1309-1313.

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氮化硅陶瓷的低温常压烧结及其力学性能

李家亮;陈斐;牛金叶   

  1. 山东理工大学化工学院,淄博,255049;武汉理工大学特种功能材料技术教育部重点实验室,武汉,430070
  • 出版日期:2011-12-15 发布日期:2021-01-18
  • 基金资助:
    山东省自然科学基金(ZR2011EL004)

Preparation of Silicon Nitride Ceramic by Low Temperature Pressureless Sintering and Its Mechanical Property

LI Jia-liang;CHEN Fei;NIU Jin-ye   

  • Online:2011-12-15 Published:2021-01-18

摘要: 本文采用氧化镁(MgO)和磷酸铝(AlPO4)为烧结助剂,利用常压烧结工艺于1600℃制备了以α相为主相的氮化硅( Si3N4)陶瓷材料.利用XRD和SEM等对其物相组成和显微结构进行了表征,并分析烧结助剂含量对材料致密度的影响,研究氮化硅陶瓷的致密度与其力学性能之间的关系.结果表明:当AlPO4含量为20wt% ~ 30wt%时,氮化硅陶瓷的致密度可达90%以上,抗弯强度为250~320 MPa.AlPO4在Si3N4陶瓷烧结中对提高其致密度与力学性能起到了重要的作用.

关键词: 氮化硅陶瓷;低温常压烧结;AlPO4

中图分类号: