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硅酸盐通报 ›› 2011, Vol. 30 ›› Issue (5): 1072-1076.

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K4体系KTP晶体的制备及其性能研究

葛世艳;师瑞泽;肖亚波;李祯;张杰;姜秀丽;王立弟   

  1. 烁光特晶科技有限公司,北京,100018
  • 出版日期:2011-10-15 发布日期:2021-01-18

Research on Preparation and Properties of KTP Crystal Grown from K4 Flux System

GE Shi-yan;SHI Rui-ze;XIAO Ya-bo;LI Zhen;ZHANG Jie;JIANG Xiu-li;WANG Li-di   

  • Online:2011-10-15 Published:2021-01-18

摘要: 本文选用K4P2O7助溶剂体系生长KTP晶体,所生长的晶体具有低吸收率和蓝、绿光波段抗灰迹性能,确定其最佳生长配比为KTP/K4 =0.8 mol/mol,测定其饱和点为850℃左右,从饱和点缓慢降温到820℃所生长晶体质量最佳,并对其进行了PCI抗灰迹吸收测试、倍频效率测试、电导率测试.结果表明:在同样原料纯度的情况下,吸收系数只有普通K6体系KTP晶体的十几分之一;1064 nm调Q到绿光的转化效率为61.8%(普通KTP转化效率为50%);在1 kV直流长时间加压条件下,Z向电导率达到10-10S/cm量级,较普通K6体系生长的KTP晶体低2~3个数量级.

关键词: 磷酸氧钛钾;抗灰迹;K4P2O7助溶剂

中图分类号: