软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化

硅酸盐通报 ›› 2011, Vol. 30 ›› Issue (4): 899-903.

软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化

陈静;刘正堂;Anne-Marie Haghiri-Gosnet

西北工业大学材料科学与工程学院,西安710072;法国国家科研中心光子与纳米结构实验室,马库锡91460;西北工业大学材料科学与工程学院,西安,710072;法国国家科研中心光子与纳米结构实验室,马库锡91460

出版日期:2011-08-15 发布日期:2021-01-18
基金资助:
国家留学基金委留学基金

Soft UV Nanoimprint Lithography Process Optimization for Plasmonic Nanohole Structures Fabrication

CHEN Jing;LIU Zheng-tang;Anne-Marie Haghiri-Gosnet

Online:2011-08-15 Published:2021-01-18

摘要/Abstract

摘要： 利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列.为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化.在这项工作中,压印压力最小化到10 psi,结果表明这一数值足以保证图案的精确复制以及图案转移的保真度.最后,利用反应离子刻蚀的方法去除残余光胶,并用剥离的方法进行图案转移,成功地制备出了均匀性良好的金纳米孔阵列.为了证明金属纳米周期结构在生物传感上的应用,使该阵列表面吸附蛋白质分子,结果观察到明显的透射峰偏移.

中图分类号:

陈静;刘正堂;Anne-Marie Haghiri-Gosnet. 软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化[J]. 硅酸盐通报, 2011, 30(4): 899-903.

CHEN Jing;LIU Zheng-tang;Anne-Marie Haghiri-Gosnet. Soft UV Nanoimprint Lithography Process Optimization for Plasmonic Nanohole Structures Fabrication[J]. BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY, 2011, 30(4): 899-903.

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