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硅酸盐通报 ›› 2007, Vol. 26 ›› Issue (4): 841-844.

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超细SiO2的化学沉淀法制备及其原位改性

林金辉;王美平;魏双凤   

  1. 成都理工大学材料与化学化工学院,成都,610059
  • 出版日期:2007-08-15 发布日期:2021-01-15
  • 基金资助:
    四川省教育厅资助项目(2004A147)

Preparation and In-situ Modification of Ultrafine SiO2 by Chemical Precipitation Method

LIN Jin-hui;WANG Mei-ping;WEI Shuang-feng   

  • Online:2007-08-15 Published:2021-01-15

摘要: 以天然优质粉石英自制的Na2O3.1SiO2为原料、硅烷偶联剂KH550为改性剂、HCl为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂,采用化学沉淀法制备了超细且分散性好的改性SiO2粉体.研究了硅烷偶联剂KH550对溶液中生成的二氧化硅粒子表面原位改性的影响及机理,优化了制备超细改性SiO2粉体的工艺条件.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、红外光谱(FTIR)对制备产物进行了表征.结果表明硅烷偶联剂KH550是有效的改性剂.

关键词: 化学沉淀法;超细SiO2;硅烷偶联剂KH550;原位改性

中图分类号: