溅射功率和气压对CdTe薄膜结晶性的影响

硅酸盐通报 ›› 2007, Vol. 26 ›› Issue (4): 715-719.

溅射功率和气压对CdTe薄膜结晶性的影响

王国宁;杨宇;孔令德;姬荣斌;张曙

云南大学材料科学与工程系,昆明,650091;昆明物理研究所,昆明,650223

出版日期:2007-08-15 发布日期:2021-01-15
基金资助:
国家自然科学基金(60567001)

The Influence of Sputtering Power and Pressure on CdTe Film's Crystallinity

WANG Guo-ning;YANG Yu;KONG Ling-de;JI Rong-bin;ZHANG Shu

Online:2007-08-15 Published:2021-01-15

摘要/Abstract

摘要： 用射频磁控溅射在普通玻璃衬底上制备CdTe薄膜.采用XRD对制备出的薄膜进行分析研究;并讨论了溅射气压、溅射功率对薄膜结晶性的影响.进一步研究表明:溅射气压低时溅射功率对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射气压高时要大;溅射功率低时溅射气压对CdTe薄膜结晶性的影响程度比溅射功率高时要小.并对造成上述结果的机理进行了初步的理论探讨.

中图分类号:

O484

王国宁;杨宇;孔令德;姬荣斌;张曙. 溅射功率和气压对CdTe薄膜结晶性的影响[J]. 硅酸盐通报, 2007, 26(4): 715-719.

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