硅酸盐通报 ›› 2007, Vol. 26 ›› Issue (1): 84-86.
顾少轩;张林;赵光华
出版日期:2007-02-15
发布日期:2021-01-15
基金资助:GU Shao-xuan;ZHANG Lin;ZHAO Guang-hua
Online:2007-02-15
Published:2021-01-15
摘要： 采用磁控溅射法在ITO导电玻璃上制备As-S玻璃薄膜,采用XRD、透可见-红外性能、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分.结果发现,利用磁控溅射方法得到了透过率较高、光学质量优良、没有明显的缺陷的As-S硫系玻璃薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜As/S摩尔比为0.686,大于设计组成.
中图分类号:
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