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硅酸盐通报 ›› 2018, Vol. 37 ›› Issue (10): 3049-3053.

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磁控溅射功率对玻璃基DLC薄膜的结构和硬度的影响

刘翔;赵青南;张泽华;李渊;曾瑧;董玉红;赵杰   

  1. 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉 430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁 223800;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁,223800
  • 出版日期:2018-10-15 发布日期:2021-01-18
  • 基金资助:
    国家"十三五"重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)

Effects of Sputtering Power on Structure and Hardness of DLC Thin Films Deposited on Glass Substrates

LIU Xiang;ZHAO Qing-nan;ZHANG Ze-hua;LI Yuan;ZENG Zhen;DONG Yu-hong;ZHAO Jie   

  • Online:2018-10-15 Published:2021-01-18

摘要: 用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/SiC/DLC(diamond-like carbon)薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度.结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0.56,镀膜玻璃的硬度值最大(830 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23.88%.

关键词: DLC薄膜;硬度;磁控溅射功率;过渡层SiC

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