摘要： 用电子束蒸发方法沉积HfO2薄膜,用X射线衍射和透射光谱测定HfO2薄膜的结构特征和光学性能,并测定薄膜的弱吸收和损伤阈值.结果表明:HfO2薄膜在沉积温度为350℃时,达到了较好的结晶程度.在可见光和近红外光区具有很高的透过率;HfO2薄膜的损伤阈值比较高,达到10.5 J/cm2.
中图分类号:
张红鹰;吴师岗;杜健. 电子束蒸发制备HfO2薄膜的性能研究[J]. 硅酸盐通报, 2014, 33(5): 1256-1258.
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