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硅酸盐通报 ›› 2004, Vol. 23 ›› Issue (3): 45-49.

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热等离子体雾态气化制备薄膜技术

宫华;黄晖;汪敏强;姚熹   

  1. 长安大学材料工程系,西安,710054;西安交通大学电子陶瓷与器件教育部重点实验室,西安,710049
  • 出版日期:2004-06-15 发布日期:2021-01-15
  • 基金资助:
    中国-以色列合作项目(2002-2003)%国家重点基础研究发展计划(973计划)(20002CB613305)

Mist Plasma Evaporation Technique for Preparation of Thin Films

  • Online:2004-06-15 Published:2021-01-15

摘要: 热等离子体雾态气化制备薄膜技术(mist plasma evaporation, MPE)以液态源物质溶液为先体,采用超声雾化将先体溶液雾化为细小液滴,用载气将雾化液滴输运到射频感应热等离子体中,利用热等离子体的超高温,将液滴中的源物质彻底气化和分解为其组分粒子,通过气相输运,最终在基片上沉积薄膜.MPE制备薄膜技术采用单一先体溶液,源物质来源广泛,沉积速率快,不需后续热处理.本文介绍了MPE制备薄膜技术原理及工艺,综述了近年来在制备薄膜方面的研究进展.

关键词: 热等离子体雾态气化;热等离子体;超声雾化;MOCVD