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硅酸盐通报 ›› 2002, Vol. 21 ›› Issue (5): 29-32.

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氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征

王立君;阎俊霞;贾燕;徐礼德   

  1. 天津大学材料学院,天津,300072;河北科技大学材料学院,石家庄,050018
  • 出版日期:2002-10-15 发布日期:2021-01-15

Interface Fracture Characteristics of Silicon Nitride/Aluminium Diffusion Bonded Structure

  • Online:2002-10-15 Published:2021-01-15

摘要: 在真空不低于1.5×10-3Pa,温度为600℃,压强为30MPa,保温2h的条件下进行了Si3N4/Al的扩散连接.微观分析表明,连接的Si3N4/Al的界面两侧存在Si和Al原子有限的相互扩散.界面断裂力学实验证实,Si3N4/Al连接界面的断裂机制为脆性剥离.

关键词: Si3N4/Al界面;扩散连接;界面断裂

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