硅酸盐通报 ›› 2000, Vol. 19 ›› Issue (2): 19-21.
孟祥森;马青松;葛曼珍;杨辉
出版日期:2000-04-15
发布日期:2021-01-15
基金资助:Meng Xiangsen;Ma Qingsong;Ge Manzhen;Yang Hui
Online:2000-04-15
Published:2021-01-15
摘要： 我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(＜700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究.研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景.
中图分类号:
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