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硅酸盐通报 ›› 1999, Vol. 18 ›› Issue (6): 27-31.

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氮化硅浆料的胶体特性研究

刘学建;黄莉萍;古宏晨;符锡仁   

  1. 中科院上海硅酸盐研究所,上海,200050;华东理工大学技术化学物理研究所,上海,200237
  • 出版日期:1999-12-15 发布日期:2021-01-15

Studies on the Electrokinetics of Silicon Nitride Suspensions

Liu Xuejian;Huang Liping;Gu Hongchen;Fu Xiren   

  • Online:1999-12-15 Published:2021-01-15

摘要: 本文研究了Si3N4浆料的胶体特性,结果表明:Si3N4悬浮粒子的等电点(isoelectric point,简称IEP)在pH=4.2处.分散介质的离子强度影响Si3N4粒子的Zeta电位.分散剂的引入有效地提高Si3N4粒子的Zeta电位,并引起IEP的位移.粉体经不同工艺的预处理后IEP均发生不同程度的位移.X光电子能谱(XPS)分析表面组成发现其IEP的位移与Si3N4粉体表面的氧化程度有关.同时,对Si3N4浆料在不同条件下的分散性进行了考察,表明其分散性与胶体特性具有很好的一致性.

关键词: 氮化硅;胶体特性;分散性

中图分类号: